国产光刻机今年要下线了，我们离顶尖的光刻机技术还有多远？

国产高端光刻机今年要下线了，我们离顶尖的光刻机还有多远的距离呢？

从纸面来说只差一步，但这可是一大步啊，要下线的光刻机，光源是28nm，并不代表它的制程是28nm，它经过多层爆光可以得到相等于7nm的制程。而荷兰顶尖光刻机的光源是不到12nm，理论上它可以将芯片加工到5nm和3nm，同样需要多层爆光，而目前台积电和三星的5nm制程，就是这样来的。

目前其实有很多芯片，并不需要那么先进的制程，如果我们国内能够攻下7nm的制程，可以百分之九十五的芯片不需依赖台积电和三星，华为无芯问题就会解决，而美国想控制我们的电子技术的目的就达不到。

国产光刻机为28nm制程，荷兰顶尖的EUV光刻机到7nm5nm制程，差距不是一点点大。但中国人民富有智慧和拼搏精神，一旦开始自我研发，一定能解决卡脖子问题。

万事开头难，这是很好的开头。虽然现在有很大差距。但是经过我国科学家努力，距离赶超世界顶尖技术不会太久。我国上下一盘棋。在科研攻关方面世界第一。我很多科技都是集中攻关下取得，这是西方国家所不具备条件。

对我国科技的发展进步，我一直满怀信心。

刚建囯时，我们在一穷二白的情况下，制造出了原子弹氢弹火箭导弹等，还发射了第一颗人造卫星，取得了不错的成绩，使我国真正的屹立于世界民族之林！

现在，尽管美国在特大总统的领导下对我国的高科技产业进行封锁打压，但我国人民特别是科技工作者面对压力，具有越挫越勇的不屈精神，就像弹簧一样，压力越大，反作用力就越强。科技工作者不会屈服于美帝的压力，一定会崩发出强大的创造力再加上国家政策的支持，肯定会取得长足进步！

饭要一口一口吃，路要一步一步走，今年能下线的光刻机，肯定不会太先进，但它毕竟是科技工作者的心血凝成的，我们应该感到高兴。但也应清醒的看到，差距还在，面对取得的成绩，不能妄自菲薄，应保持清醒的头脑，看准方向埋头苦干，创造出我们辉煌的科技新时代！