纳米压印技术真实水平探析

某企业高调宣布成功研制纳米压印光刻机，并宣称可实现10纳米图案精度。
笔者查阅其官网主页，在核心宣传文案中发现一张用于佐证技术能力的纳米压印图（图2），实际显示的条纹尺寸为300纳米。
作为行业重要参与者，佳能过去十年持续在SPIE会议发布纳米压印进展。暂不追溯此前成果，仅聚焦2025年4月最新公开数据：佳能与Kioxia联合发表论文，报道面向大规模NAND制造的纳米压印工艺——在25纳米半间距条件下，良率接近100%。
需要明确的是，纳米压印原理类似盖章，在小面积上实现亚10纳米级图案本身并非技术难点；真正的核心挑战在于：如何保证大面积曝光中图案的高度重复性、低缺陷密度及工艺稳定性。
因此，该企业所称设备可实现10纳米图案，具体指向何种条件下的技术指标——是单点测试？最小线宽？还是包含套刻精度、缺陷率、量产良率等综合参数？目前尚无进一步说明。