上海一家芯片制造企业已实现14纳米工艺量产,这是国内第二家达成此成就的企业,国产芯片制造正加速推进。以下从多个方面详细阐述:
研发历程:该上海芯片制造企业数年前就已实现28纳米工艺量产,此后持续推进14纳米工艺研发。今年5月份,其14纳米工艺良率提升至25%,经过数个月努力,最终实现14纳米工艺量产。
量产条件:14纳米工艺无需先进的EUV光刻机,现有ASML可对外出售的DUV光刻机就能满足生产需求。甚至该企业用于28纳米工艺生产的DUV光刻机,采用多重曝光技术也可实现14纳米工艺。在当前美国限制先进光刻机对中国芯片制造企业供应的情况下,这为企业实现14纳米工艺量产提供了可能。
人才助力:为加快14纳米工艺量产,这家上海企业大举从中国台湾挖来关键技术人才。中国台湾的台积电如今已推进至3纳米,联电也早在多年前就实现14纳米工艺量产,大量人才为企业所用,加速了14纳米工艺研发进程。

工艺优势
满足更多需求:14纳米工艺比当前国内大量生产的28纳米工艺先进两代,能满足更多国内芯片设计企业的需求。目前国内诸多芯片行业仍大量采用28纳米及以上工艺生产芯片,14纳米的推出可更好地契合这些企业的需求。
提升性能:14纳米工艺引入了FinFET技术,比28纳米工艺大幅提升了性能。对于汽车芯片等,可提供更强性能,例如目前较多国产汽车企业采用的骁龙820A就是一款采用14/16纳米工艺的芯片,有助于国产汽车芯片进一步抢夺美国芯片市场。
推进技术演进:FinFET技术可演进至3纳米,台积电的第一代7纳米工艺就采用DUV光刻机以多重曝光技术实现。国产芯片制造企业实现14纳米工艺,意味着向7纳米工艺迈出了重要一步。

行业影响
激发潜力:这几年国产芯片在美国压力下爆发巨大潜力,芯片制造企业在压力下加快研发了比14纳米工艺更先进的12纳米、相当于7纳米的N + 1工艺等。此次实现14纳米工艺量产,将大幅加快7纳米工艺的研发进程。
提升可靠性:国内两家芯片制造企业实现14纳米工艺量产,提升了国产芯片制造的可靠性。国内14纳米工艺产能将倍增,国产芯片设计企业有了更多选择,芯片生产供应也更有保障。

国产芯片在艰难环境下加快创新,凸显出不畏艰险的精神。即使难以获得更先进光刻机,也能利用现有光刻机加快芯片制造工艺升级。相信国产芯片制造企业技术会越来越先进,助力国产芯片从设计到制造实现自主研发。