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硫磺是危险品吗

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碱性品红)总体可分类为七种,其中高纯试剂较常使用高纯试剂详细解释说明
对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验,一般常用原子吸收光谱、原子发射光谱、色谱、质谱比色化学分析等方法进行测定。其阴离子规格原则上参照试剂优级标准,没有优级标准的产品由生产单位自行制定。根据用途不同,把高纯试剂又分成几大类:
•普通离纯试剂
是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N-6N之间。
•超净电子纯试剂
超净高纯试剂是集成电路(IC)制造工艺中的专用化学品,用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格,为适应IC集成度不断提高的需求,国际上半导体工业协会(SemiconductorIndustry Association)近来推出Semic7(适合0.8-1.2微米工艺技术)和Semic8(适合于0.2-0.6微米工艺技术)级别的试剂质量标准。我国在原有MOS
级、BV-I级试剂的基础上,又制定出BV-II级和BV-III级试剂标准(相当于Semic7)。我研究所也研制多种MOS级、BV-I级BV-II
级和部分BV-III级试剂,其颗粒度(0.5微粒颗粒)
≤25-100个∕ml,金属杂质总量≤10 -3—10 - 5

•光刻胶高纯试剂
光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和
“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X射线等光刻胶。
光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤10 -6)
•磨抛光高纯试剂
是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求2.0×10 -4—5×10 -5﹪
•液晶高纯试剂
液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。
液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN(低档
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